专利摘要:

公开号:WO1992005162A1
申请号:PCT/JP1991/001253
申请日:1991-09-20
公开日:1992-04-02
发明作者:Masahiro Suzuki;Kenji Nozaki;Makoto Kajitani;Mitsugi Yasumoto;Naohiko Ono;Takashi Shindo
申请人:Taiho Pharmaceutical Co., Ltd.;
IPC主号:C07D413-00
专利说明:
[0001] 明 細 書
[0002] イソ才キサゾール化合物、 その薬学的に 許容される塩及びそれらの医薬用途
[0003] 技 術 分 野
[0004] 本発明は、 リポキシゲナーゼ阻害作用及びシクロォキシ ゲナーゼ阻害作用を有する新規なイソォキサゾール化合物、 その薬学的に許容される塩及びそれらの医薬用途に関する。
[0005] 背 景 技 術
[0006] アレルギー性喘息、 アレルギー性鼻炎、 炎症等の発症に はァラキ ドン酸の 5— リポキシゲナーゼ生成物であるロイ コ ト リエン類、 シク口才キシゲナーゼ生成物であるプロス 夕ダランジン類が深く関与する物質であると考えられてい る。 従って、 種々のアレルギー性疾患、 炎症等をより強力 に且つ的確に抑制するには、 5— リポキシゲナーゼを阻害 すると共にシク口才キシゲナーゼを阻害することが望ま し く 、 これら両方を強力に阻害する薬剤の開発が強く望まれ ている。
[0007] 発 明 の 開 示
[0008] 本発明者は、 上記背景技術の問題点に鑑みて鋭意研究を 重ねた結果、 下記一般式 ( 1 ) で表わされる新規なイ ソォ キサゾール化合物及びその薬学的に許容される塩が優れた リ ポキシゲナーゼ阻害作用及びシク口ォキシゲナーゼ胆害 作用を有し、 医薬として有用であること.を見出し、 本発明
[0009] ¾兀成した。
[0010] すなわち、 本発明は一般式 ( 1 )
[0011]
[0012] 〔式中、 Rは水素原子又は低級アルコキシ基を示し、 は一般式 (2)
[0013] (式中、 Aは—NH—又は一 0—を示す。 Bはメチレン基 又はカルボ二ル基を示す。 mは 0又は 1を示し、 nは 1〜 12の整数を示す。 Xは水素原子、 ヒ ドロキシ基又は低級 アルコキシカルボ二ル基を示す。 Yはハロゲン原子で置換 されていてもよいフエニル基又は水素原子を示す。 ) で表 わされる基、
[0014] —般式 (3 ) ■N N-Z (3)
[0015] _ f ( Zはピリ ミ ジニル基を示す。 ) で表わされる基、 又は 一般式 (4 )
[0016] /"A ¾
[0017] -Ν NCH2CH,-NH-C-R2 (4)
[0018] N _ f ~ (式中、 R 2 はヒ ドロキシ基で置換されていてもよいスチ リル基を示す。 ) で表わされる基を示す。 〕
[0019] で表わされるィ ソォキサゾール化合物又はその薬学的に許 容される塩を提供するものである。
[0020] —般式 ( 1 ) で表わされる本発明化合物は、 優れたリ ポ キシゲナーゼ阻害活性及びシク口才キシゲナーゼ阻害活性 を有している。 ここで、 リポキシゲナーゼと しては、 例え ば 5 — リポキシゲナーゼ、 1 2 — リポキシゲナーゼ、 1 5 ー リ ポキシゲナーゼ等が挙げられ、 本発明化合物は、 特に 5— リポキシゲナーゼに優れた阻害作用を有している。 本発明化合物は、 優れたリ ポキシゲナーゼ阻害活性及び シク ロォキシゲナーゼ阻害活性を有しており、 抗喘息剤、 抗アレルギー剤、 脳疾患用剤、 循環器用剤、 臀炎治療剤、 消炎鎮痛剤、 抗リウマチ剤、 乾癬等に代表される皮慮疾患 治療剤及び肝疾患用剤として有用である。
[0021] 従って、 本発明は、 上記一般式 ( 1 ) の化合物又はその 薬学的に許容される塩の有効量と薬学的担体とを含有する 抗喘息剤、 抗アレルギー剤、 脳疾患用剤、 循環器用剤、 腎 炎治療剤、 消炎鎮痛剤、 抗リウマチ剤、 乾癬等に代表され る皮膚疾患治療剤及び肝疾患用剤を提供するものである。
[0022] また、 本発明は、 上記一般式 ( 1 ) の化合物又はその薬 学的に許容される塩の有効量を患者に投与することを特徵 とする喘息、 アレルギー、 脳疾患、 循環器疾患.、 腎疾患、 炎症、 リウマチ、 乾癬等に代表される皮虜疾患及び肝疾患 を治療する方法を提供するものである。
[0023] 一般式 ( 1 ) の化合物が不斉炭素原子を含む場合、 本発 明のィソォキサゾール化合物は R体、 S体及び R体と S体 のいかなる割合の混合物をも包含するものである。
[0024] 本発明において、 Rで示される低級アルコキシ基及び X で示される低級アルコキシカルボニル基の低級アルコキシ 基としては、 例えば、 メ トキシ基、 エトキシ基、 n—プロ ポキシ基、 イソプロポキシ基、 n—ブトキシ基、 イソブト キシ基、 s e c —プトキシ基、 t 一ブトキン基等の炭素数 1 〜 4の直鎖状又は分枝状のアルコキシ基が挙げられる。
[0025] Yで示されるフヱニル基の置換基であるハロゲン原子と しては、 例えば、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ 素原子等を例示できる。
[0026] 該ハロゲン原子で置換されていても良いフヱニル基と し ては、 ハロゲン原子を 1 〜 5個、 好ま しく は 1、 2又は 3 個有する ものが好ま しい。
[0027] 又、 一般式 (4 ) における R 2 で示される ヒ ドロキシ基 で置換されていても良いスチリル基と しては、 ベンゼン環 上にヒ ドロキシ基を 1〜 5個、 好ま しく は 1〜 3個有して いても良いスチリル基が例示できる。
[0028] 本発明のィソォキサゾール化合物の薬学的に許容される 塩と しては、 冽えば塩酸、 硫酸、 リ ン酸等の無機酸、 マレ イ ン酸、 コハク酸、 リ ンゴ酸、 シユウ酸、 フマル酸等の有 機酸等との塩が挙げられる。
[0029] 上記一般式 ( 1 ) の化合物において、 Rは低級アルコキ シ基であるのが好ま しく、 メ トキシ基であるのがより好ま しい。
[0030] また、 は、 一般式 (2 ) で表わされる基であるのが 好ま しく 、 より好ま しく は、 式中 Aがー N H—又は一 0 — を示し、 Bがメチレン基又はカルボ二ル基を示し、 mが 1 を示し、 nが 6〜 1 2の整数を示し、 Xが水素原子または ヒ ドロキシ基を示し、 Yがフユニル基又は水素原子を示す 一般式 ( 2 ) で表わされる基が良く 、 最も好ま しく は、 式 中 Aがー NH—を示し、 Bがメチレン基又はカルボニル基 を示し、 mが 1を示し、 nが 10を示し、 Xが水素原子ま たはヒ ドロキシ基を示し、 Yがフヱニル基又は水素原子を 示す一般式 (2) で表わされる基が良い。
[0031] 上記一般式 (1 ) の化合物のうち、 好ま しい化合物は、 Rが低級アルコキシ基を示し、 が一般式 (2) で表さ れる化合物であって、 式中 Aがー N H—又は一 0—を示し. Bがメチレン基又はカルボ二ル基を示し、 mが 1を示し、 nが 6〜 12の整数を示し、 Xが水素原子またはヒ ドロキ シ基を示し、 Yがフ ニル基又は水素原子を示す化合物で め ^ 0
[0032] また、 最も好ま しい化合物は、 Rがメ トキシ基を示し、 R J が一般式 (2) で表される化合物であって、 式中 Aが 一 NH—を示し、 Bがメチレン基又はカルボ二ル基を示し. mが 1を示し、 nが 10を示し、 Xが水素原子またはヒ ド 口キシ基を示し、 Yがフユニル基又は水素原子を示す化合 物である。
[0033] —般式 ( 1 ) で表わされる本発明化合物は、 一般には下 記反応工程式 ( i ) に示す方法により製造される。 <反応工程式 ( i ) 〉
[0034]
[0035] 〔式中、 R及び R 2 は前記に同じ。 〕
[0036] 一般式 ( 5) で表わされるカルボン酸を、 一般式 (6) で表わされるア ミ ン又はアルコールと溶媒中、 縮合剤を用 い、 塩基の存在下又は非存在下に反応させることにより、 目的の一般式 ( 1 ) で表わされるイ ソォキサゾール化合物 を得る。
[0037] この時、 一般式 (6) で表わされる化合物が上記縮合反 応に関与すべきでないヒ ドロキシ基を有する場合には、 適 当な保護基によつてヒ ドロキシ基を保護した後に縮合させ ることもできる。 保護基としては、 後に脱保護反応によつ てこの基を除去する際に、 他に影響を及ぼすことがない限 り特に制限はなく 、 例えば、 メ トキシェ トキシメチル基、 メ トキシメチル基、 テ トラ ヒ ドロフラニル基、 テ トラ ヒ ド ロ ビラ二ル基等を使用でき、 これら保護基の導入方法と し ては、 ジャーナル ォプ アメ リカン ケミ カル ソサェ ティ ー J ournal of American C hemical S o c i e t y) 1 0 0, 80 3 1 ( 1 9 78) に記載の方法等の憤用さ れている方法に従って行える。
[0038] 上記縮合反応の溶媒と しては、 反応に関与しないもので あれば特に制限はなく 、 例えばエーテル、 テ トラヒ ドロフ ラ ン等のエーテル類、 塩化メチレン、 クロ口ホルム等のハ ロゲン化炭化水素類、 ベンゼン、 トルエン等の芳香族炭化 水素類、 N, N—ジメチルホルムァ ミ ド、 ジメチルスルホ キシ ド、 ァセ トニト リル等の非プロ ト ン性極性溶媒等が使 用できる。 縮合剤としては、 例えば N, N' —ジシクロへ キシルカルボジイ ミ ド、 1 ーェチノレー 3— ( 3—ジメチル ァ ミ ノプロ ピル) カルポジイ ミ ド、 エ トキンカルボニルク 口 リ ド、 ト リメチルァセチルク口リ ド、 力ルポ二ルジィ ミ ダゾール、 2—クロ口— 1 一メチルピリ ジニゥム ョーダ イ ド、 2—クロ口一 1 一メチルピリ ジニゥム p — トルェ ンスルホネー ト、 1 , 3—チアゾリ ジン一 2—チオン等を 例示できる。 塩基としては、 例えば 4ージメチルアミ ノ ビ リ ジン、 1— ヒ ドロキシベンゾ ト リ ァゾール、 ピリ ジン、 ト リエチルア ミ ン、 ジイ ソプロ ピルェチルア ミ ン等を示す こ とができる。
[0039] 反応に際しては、 一般式 (6) の化合物に対し、 一般式 (5) の化合物を 1〜 2倍当量程度、 縮合剤を 1〜3倍当 量程度、 塩基を触媒量もしく は 1〜2倍当量程度用いるの が好ま しい。 又、 反応時間は 2〜48時間程度であり、 反 応温度は氷冷下から溶媒が還流する温度で有利に進行する。
[0040] 又、 が一般式 (4) で表わされる基である一般式 (1) で表わされる化合物の場合、 下記の反応工程式 (H) に従い製造する こと もできる。
[0041] <反応工程式 (ii) >
[0042]
[0043] (9)
[0044]
[0045] 〔式中、 R及び R2 は前記に同じ。 〕
[0046] 一般式 (5) で表わされるカルボン酸を、 式 (7) で表 わされる公知化合物と反応工程式 ( i ) と同様にして反応 させることにより、 一般式 (8) で表わされる化合物を得 る。 次に、 この一般式 (8) で表わされる化合物を、 例え ば通常用いられるガブリエル合成に従い脱保護することに より、 一般式 (9) で表わされる化合物へと導く ことがで きる。 更に、 この一般式 (9) で表わされる化合物を、 一 般式 ( 1 0) で表わされるカルボン酸と反応工程式 ( i ) と同様にして反応させることにより、 目的の一般式 ( l a ) で表わされるィソォキサゾール化合物を得る。
[0047] 上記反応工程式 ( i ) で原料として使用される一般式 (6) で表わされる化合物のうち、 が一般式 (2) で 表わされる化合物は下記の反応工程式(Hi) に従い製造す ることができる。 ただし、 が一般式 (2) で表わされ る一般式 (6) の化合物中、 mが 1であり、 Aがー 0 -で 表わされる化合物は、 例えば特開昭 6 1 - 1 52656号 に記載の方法により製造することができ、 又 が一般式 ( 3 ) で表わされる一般式 (6) の化合物は、 公知の化合 物である。
[0048] <反応工程式(iii) >
[0049] H ? ,·
[0050] C-OH 十 HN N-(CH,)n-X
[0051] Y
[0052] γ
[0053] (12)
[0054] (11)
[0055] A法
[0056] G法 -(CH2)n-X
[0057] N N-(CH2)n-X
[0058] Y
[0059] (15)
[0060] D法
[0061]
[0062] (16)
[0063] 〔式中、 は t 一ブトキシカルボニル基又はべンジル ォキシカルボ二ル基を示し、 X Y及び nは前記に同じ。 〕 反応工程式(iii) は、 まず (A法) により縮合生成物
[0064] ( 1 3) を得、 これを (B法) に従い脱保護して化合物
[0065] ( 14) を得るルー ト及び、 縮合生成物 ( 1 3) を (C法) に従い還元後 (D法) に従い脱保護して化合物 ( 1 6) を 得るルー トの 2つのルー トから成る。
[0066] 以下、 (A法) 〜 (D法) まで順に説明する。
[0067] (A法)
[0068] 一般式 (1 1 ) で表わされる公知のカルボン酸を、 一般 式 (1 2) で表わされる公知のアミ ンと反応工程式 ( i ) と同様にして反応させることにより、 一般式 ( 1 3) で表 わされる ピペラジン化合物を得る。
[0069] (B法)
[0070] 一般式 (1 3) で表わされる化合物を、 溶媒中、 酸で処 理するか又は水素添加することにより、 で示される基 を除去し、 一般式 (14) で表わされるピぺラジン化合物 を得る。 溶媒と しては反応に関与しないものであれば特に 制限はなく 、 例えば反応工程式 ( i ) で例示した溶媒の他、 メ タノール、 エタノール等のプロ ト ン性極性溶媒も使用す ることができる。 酸と しては、 一般にァ ミ ノ基の保護基を 脱保護する際に用いられるものであれば特に制限はなく 、 例えば塩酸、 硫酸、 ト リフルォロ酢酸、 臭化水素酸等を例 示できる。 水素添加により脱保護する場合は、 例えばパラ ジゥム炭素等の触媒を用いることにより有利に反応は進行 する。 これら脱保護の反応条件は、 ペプチ ド合成時におけ る脱保護等の公知慣用の方法に従って行える。
[0071] (C法)
[0072] 一般式 ( 13) で表わされる化合物を、 溶媒中、 還元剤 を反応させることに ·Ώ)、 一^; (15) で表わされるピ ペラジン化合物を得る。 溶媒としては、 反応に関与しない ものであれば特に制限はなく、 例えば反応工程式 ( i ) で 例示した溶媒を使用することができる。 反応時間は 2〜4 8時間程度、 反応温度は氷冷下である。 還元剤としては、 例えば水素化リチウムアルミニウム、 アルミニウムハイ ド ライ ド等を例示することができ、 これらは通常は化合物
[0073] ( 13) に対し 2〜 10倍当量程度又は過剰量用いられる <
[0074] (D法)
[0075] 一般式 ( 1 5) で表わされる化合物を、 (B法) と同様 に反応させることにより、 一般式 (16) で表わされるピ ペラジン化合物を得る。
[0076] 上記 (A法) 〜 (D法) による原料化合物の具体的製造 例を、 後記参考例 1〜6に示す。
[0077] 又、 上記反応工程式 ( i ) で原料として使用される一般 式 (6) で表わされる化合物のうち、 が一般式 (4) で表わされる化合物は下記の反応工程式 (iv) に従い製造 することができる。
[0078] <反 R応工程式 (iv) >
[0079]
[0080] (18)
[0081] -R2
[0082] (19)
[0083] (式中、 R2 は前記に同じ。 )
[0084] 一般式 (17) で表わされる力ルボン酸を、 1 , 3—チ ァゾリ ジン一 2—チオンと溶媒中、 縮合剤を用い、 触媒の 存在下に反応させることにより、 中間体である一般式 ( 1 8) で表わされる化合物を生成させ、 次にこれに単離する ことなく N— (^一ア ミ ノエチル) ピぺラジンを加え、 目 的の一般式 (1 9) で表わされる化合物を得る。 上記反応 の溶媒と しては、 反応に関与しないものであれば特に制限 はなく 、 例えばエーテル、 テ トラ ヒ ドロフラン等のエーテ ル類、 塩化メチレン、 クロ口ホルム等のハロゲン化炭化水 素類、 ベンゼン、 トルエン等の芳香族炭化水素類等が使用 できる。 縮合剤と しては、 例えば Ν, N' ージシクロへキ シルカルボジイ ミ ド、 エ トキシカルボニルク ロ リ ド等を例 示できる。 触媒と しては、 例えば 4一ジメチルァ ミ ノ ピリ ジ ン、 1 ー ヒ ドロキンべンゾ ト リァゾール、 ト リ ェチルァ ミ ン、 ピリ ジン等を例示できる。 反応に際しては、 一般式 ( 1 7 ) のカルボン酸に対し、 1 , 3 -チアゾリ ジン一 2 一チ才ンを 1〜 1. 5倍当量程度、 縮合剤を 1〜 2倍当量 程度、 触媒を 0. 1〜 1. 5倍当量程度、 Ν— ( ^一ア ミ ノエチル) ピぺラジンを 1〜2倍当量程度用いるのが好ま しい。 又、 反応温度は氷冷下から室温程度であり、 反応時 間はカルボン酸と 1 , 3—チアゾリ ジン一 2—チオンとの 反応では 1〜4時間程度、 中間体と Ν - (^—ア ミ ノエチ ル) ピぺラジンとの反応では 1〜48時間程度で有利に進 行する。
[0085] また、 上記反応により得られた本発明化合物は、 これを 例えばエーテル類、 低級アルコール、 酢酸ェチル、 へキサ ン等の溶媒中、 室温程度の温度下に、 前記有機酸または無 機酸と反応させる等の従来公知の方法により、 塩の形態と することができる。
[0086] 上記反応工程式 ( i ) 〜 ( ) で得られた各化合物は、 濃縮、 濾過、 再結晶、 各種クロマ トグラフィ 一等の通常当 分野で用いられる手段により単離、 精製される。
[0087] 本発明化合物を医薬と して用いるに当たっては、 予防ま たは治療目的に応じて各種の投与形態を採用可能であり、 該形態と しては、 例えば経口剤、 注射剤、 坐剤等が挙げら れる。 これらの投与形態は、 各々当業者に公知憤用の製剤 方法により製造できる。
[0088] 経口用固形製剤を調製する場合は、 本発明化合物に賦形 剤、 必要に応じて結合剤、 崩壊剤、 滑沢剤、 着色剤、 嬌味 剤、 嬌臭剤等を加えた後、 常法により錠剤、 被覆錠剤、 顆 粒剤、 散剤、 カプセル剤等を製造することができる。 その ような添加剤と しては、 この分野で一般的に使用されてい るものであれば良く 、 例えば、 賦形剤と しては乳糖、 白糖、 塩化ナ ト リ ウム、 プ ドウ糖、 デンプン、 炭酸カルシウム、 カオ リ ン、 微結晶セルロース、 珪酸等が挙げられ、 結合剤 と しては、 水、 エタノール、 プロパノール、 単シロップ、 プ ドウ糖液、 デンプン液、 ゼラチン液、 カルボキンメ チル セルロース、 ヒ ドロキシプロ ビルセルロース、 ヒ ドロキシ プロ ピルスターチ、 メ チルセルロース、 ェチルセルロース、 シヱラ ッ ク、 リ ン酸カルシウム、 ポリ ビニルピロ リ ドン等 が挙げられ、 崩壊剤と しては、 乾燥デンプン、 アルギン酸 ナ ト リ ウム、 カ ンテン末、 炭酸水素ナ ト リ ウム、 炭酸カル シゥム、 ラウ リ ル硫酸ナ ト リ ウム、 ステア リ ン酸モノ グリ セリ ド、 乳糖等が挙げられ、 滑沢剤としては、 精製タルク、 ステアリ ン酸塩、 ホウ砂、 ポリエチレングリ コール等が挙 げられ、 嬌味剤と しては、 白糖、 橙皮、 クェン酸、 酒石酸 等が挙げられる。
[0089] 経口用液体製剤を調製する場合は、 本発明化合物に嬌味 剤、 緩衝剤、 安定化剤、 嬌臭剤等を加えて常法により内服 液剤、 シロップ剤、 エリキシル剤等を製造することができ る。 この場合の嬌味剤と しては、 上記に例示されたもので 良く 、 緩衝剤と してはクェン酸ナ ト リ ゥム等が挙げられ、 安定化剤と しては トラガン ト、 アラビアゴム、 ゼラチン等 が挙げられる。
[0090] 注射剤を調製する場合は、 本発明化合物に p H調節剤、 緩衝剤、 安定化剤、 等張化剤、 局所麻酔剤等を添加し、 常 法により皮下、 筋肉内、 静脈内用注射剤を製造することが できる。 この場合の p H調節剤および緩衝剤と しては、 ク ェン酸ナ ト リ ウム、 酢酸ナ ト リ ウム、 リ ン酸ナ ト リ ウム等 が挙げられる。 安定化剤と しては、 例えばピロ亜硫酸ナ ト リ ウム、 E D T A、 チォグリ コール酸、 チォ乳酸等が挙げ られる。 局所麻酔剤と しては、 例えば塩酸プロ力イ ン、 塩 酸リ ドカイ ン等が挙げられる。
[0091] 坐剤を調製する場合は、 本発明化合物に当業界において 公知の製剤用担体、 例えばポリエチレングリ コール、 ラノ リ ン、 カカオ脂、 脂肪酸ト リ グリセライ ド等を加え、 さら に必要に応じてツイーン (登録商標) のような界面活性剤 等を加えた後、 常法により製造することができる。
[0092] 上記の各投与単位形態中に配合されるべき本発明化合物 の量は、 これを適用すべき患者の症状により或いはその剤 型等により一定ではないが、 一般に投与単位形態当たり、 経口剤では約 1〜 100 Omg、 注射剤では約 0. 1〜 500 m g、 坐剤では約 5〜: L O O Omgとするのが望ま しい。 また、 上記投与形態を有する薬剤の 1日当たりの投 与量は、 患者の症状、 体重、 年齢、 性別等によって異なり 一概には決定できないが、 通常成人 1日当たり約
[0093] 0. l〜5000mg、 好ま しく は 1〜: L O O Omgとす れば良く 、 これを 1回または 2〜4回に分けて投与するの が好ま しい。
[0094] 発明を実施するための最良の形態
[0095] 次に参考例、 実施例、 製剤例及び薬理試験例を示し、 本 発明を更に詳しく説明する。
[0096] 参考例 1
[0097] 1 — (2—ア ミ ノ ー 2—フエ二ルァセチル) 一 4一デシ ルビペラジンの合^
[0098] (a) N—ホルミ ルピぺラジン 20 g ( 0. 18 m o ) 、 1 一ブロモデカ ン 37. 2 mi (0. 18 m ο ί ) と炭酸 カ リ ウム 2 5 g (0. 1 8 m o j ) を、 N, N—ジメ チル ホルムア ミ ド 20 mi に懸濁し、 80。Cで 3時間撹拌した。 反応混合物をベンゼン 3 O O mj で抽出し、 ベンゼン層を 水洗後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、 減圧下濃縮した。 残渣をメ タノール 80 mi に溶解し、 濃塩酸 20 mi を加 え、 3時間加熱還流した。 減圧下溶媒を留去し、 析出した 結晶をァセ ト ンで洗浄し、 N—デシルビペラジンを塩酸塩 と して 3 5. 6 g (収率 66%) 得た。
[0099] (b) N—デシルビペラジン塩酸塩 2. 0 s (7. 3 5 m m o j ) 、 N— t 一ブ トキシカルポニルフヱニルグリ シン 1. · ( 7. 56 mm o^ ) 、 炭酸水素ナ ト リ ウム 1. 3 s ( 1 5. 5 m m o ί ) 、 4ージメチルァ ミ ノ ピリ ジン 1 22 m g ( 1. 0 mm o£ ) の乾燥塩化メ チ レン溶液 20 m に、 N , Ν' ージシク ロへキシルカルボジイ ミ ド 2. 3 g (8. 64 mm οΰ ) を加え、 室温下に 1 2時間 撹拌した。 析出晶を瀘取し、 塩化メチレンで洗浄し、 母液 と洗液とを合わせて減圧下に濃縮した後、 残渣をシリカゲ ルク ロマ ト グラフィ ー (ク ロ口ホルム : メ タノール- 1 5 : 1 ) にて精製し、 1 — (Ν— t 一ブトキシカルボニルフエ ニルダリ シル) 一 4一デシルビペラジンを 2. 8 g (収率 83 %) 得た。 】H - NMR ( C D CJ 3 ) δ :
[0100] 0. 87 (3H, m), 1. 24- 1.41 (25H, m) , 2. 14-2. 39 (6H, m) , 3. 30 -3. 68 (4H, m) , 5. 55 (1H, d, 7. 1Hz), 6. 12 (1H, d, J = 7. 1Hz), 7. 23 -7, 33 (5H, m)
[0101] M S : 460 ( H)
[0102] (c) 1 — ( N— t 一ブ トキンカルボニルフエニルグリ シ ル) 一 4一デシルビペラジン 2. 9 ε ( 6. 3 2 mm 0 ϋ ) を酢酸ェチル 5 mi に溶解し、 氷冷下 4 N塩酸一酢酸ェチ ル溶液 2 0 mj を加え、 1時間撹拌した。 析出晶を濾取し、 少量のエーテルで洗浄後、 減圧下乾燥し、 1 — ( 2 -ア ミ ノ一 2—フエ二ルァセチル) 一 4一デシルビペラジンを塩 酸塩と して 2 , 5 g (収率 9 0 %) 得た。
[0103] !H - NM R (D M S 0 - d 6 + D 2 0 ) δ :
[0104] 0. 86 (3Η, m), 1. 27 (12H, in), 1. 76 (2H, m) , 3. 11-3. 54 (12H, in), 4. 72 (1H, m) , 7.40 - 7. 57 (5H, m)
[0105] M S : 358 ( -l)
[0106] 参考例 2
[0107] 1 一 ( 2—ア ミ ノアセチル) 一 4—デシルビペラ ジンの 合成
[0108] 参考例 1 と同様の方法で、 N— t —ブトキシカルボニル フエ二ルグリ シンに代えて N— t —ブトキンカルボニルダ リ シンを用いて、 1 一 ( 2 —ア ミ ノアセチル) 一 4 —デシ ルビペラジンを塩酸塩として収率 76%で得た。
[0109] !H - NMR (D M S 0 - d 6 + D n 0) 5 :
[0110] 0.86 (3H, m), 1.26 (12H, in), 1.72 (2H, a),
[0111] 3.09-4.52 (14H, m)
[0112] M S : 283 (M+ }
[0113] 参考例 3
[0114] 1 一 ( 2—アミ ノー 2—フヱニルェチル) 一 4一デシル ピぺラジンの合成
[0115] 参考例 1 (b) と同様にして得た 1— (N— t 一ブトキシ カルボ二ルフヱニルグリ シル) 一 4一デシルビべラジン
[0116] 1 7 g: (37 mm oi ) のテ トラ ヒ ドロフラン 50 mi 溶 液を、 アルミニウムハイ ドライ ドのテトラ ヒ ドロフラン
[0117] 0. 66 mm o£ Zm£ 溶液 [J ournal of American C hemical S ociety, 90 , 2927 ( 1 968) 〕
[0118] 14 0 mi に氷冷下滴下して加え、 3時間撹拌した。 この 溶液に水酸化カリ ウム 2. l gの水 7. 6 m 溶液を滴下 し、 室温下 1 2時間撹拌した。 析出物を濾取し、 テトラヒ ドロフラン l O O mj で洗浄し、 母液と洗液とを合わせ、 減圧下濃縮した。 残渣を酢酸ェチル 1 50 miに溶解し、 0. 5 N塩酸 80 mj 、 飽和炭酸水素ナト リゥム水溶液、 飽和 食塩水の順で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで脱水後、 減 圧下濃縮した。 残渣を参考例 1 (c) と同様に処理し、 1一 (2—ァミ ノ一 2—フヱニルェチル) 一 4一デシルビペラ ジンを塩酸塩と して 9. 9 g (収率 5 9 %) 得た。
[0119] ]H - NMR (DM S 0 - d 6 + D 2 0) δ :
[0120] 0.86 (3Η, m), 1, 26 (12H, m) , 1. 70 (2H, m) ,
[0121] 2. 98-3.86 (14Η, m) , 4.72 (1Η, m) , 7.40 -7.63 (5Η, m) Μ S : 344 (Μ-1)
[0122] 参考例 4
[0123] 1 - ( 2—ア ミ ノエチル) 一 4一デシルビペラジンの合 成
[0124] 参考例 2の中間体と して得た 1 一 (Ν— t 一ブトキン力 ルボニルダリ シル) 一 4ーデシルピぺラジンを用い、 参考 例 3と同様な方法で処理して 1 一 ( 2—ア ミ ノエチル) 一 4 —デシルビペラジンを塩酸塩と して収率 6 5 %で得た。
[0125] JH - NMR (DM S 0 - d 6 + D 2 0) δ :
[0126] 0.84 (3Η, m), 1.27 (14H, m) , 1.74 (2H, m) ,
[0127] 3. 15-3.51 (14H, m)
[0128] M S : 269 (M+ )
[0129] 参考例 5
[0130] 1 - (2—ァ ミ ノ一 2—フエニルェチル) — 4 一 〔 1 0 一 ( 2—テ トラ ヒ ドロビラニルォキシ) デシル〕 ピペラジ ンの合成
[0131] 1 一べンジルー 4一 〔 1 0— ( 2—テ トラ ヒ ドロビラ二 ルォキシ) デシル〕 ピぺラジン 583m g ( 1. 40 mm o H ) をエタノール 20 mi に溶解し、 1 0 %パラジウム 炭素 20 O m gを加えて水素雰囲気下、 3気圧で 8時間振 盪した。 触媒を濾去し、 濾液を減圧下濃縮し、 N— 〔 1 0 一 (2—テ トラ ヒ ドロビラニルォキシ) デシル〕 ピペラジ ンを 37 5 m g (収率 82 %) 得た。 次に N— t ーブトキ シカルボニルフヱニルグリ シンと N— [ 1 0 - ( 2—テ ト ラ ヒ ドロビラ二ルォキシ) デシル〕 ピペラジンを用い、 参 考例 1及び 3と同様の方法で処理して 1一 (2—アミ ノー 2—フエニルェチル) 一 4一 〔 1 0— (2—テ トラ ヒ ドロ ビラニルォキシ) デシル〕 ピぺラジンを塩酸塩と して 38 4 m g (収率 7 5 %) 得た。
[0132] !H - NMR (C D Ci 3 + D 0) δ :
[0133] 1.28-1.63 (20Η, m) , 2.19-2.68 (14H, m) ,
[0134] 3.25 -3.86 (5Η, m) , 4.56 (1Η, m) , 7.24-7.38 (5H, m) M S : 444 (M-l), 428 (M-17)
[0135] 参考例 6
[0136] 1 1一 ( 1ー ピペラジニル) ゥンデカン酸メチルエステ ルの合成
[0137] 1 1 —プロモウンデカン酸 26. 5 s (0. 1 m o £ ) をメ タノール 300 mi に溶解し、 硫酸 5〜 6滴を加え、 室温で 24時間撹拌後濃縮した。 残渣に酢酸ェチル 500 mi を加え、 水 100 mi? 、 次いで飽和食塩水 1 00 m で洗浄した後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 減圧下 酢酸ェチルを留去し、 残渣をジメチルホルムア ミ ド 200 mj に溶解し、 ホルミ ノレビべラジン 1 1. 4 £· ( 0. 1 m ) 、 炭酸水素ナ ト リ ウム 18. 5 g (0. 22 m ) を加え、 80eCで 3時間撹拌後、 減圧下濃縮した。 残澄に 酢酸ェチル 500m を加え、 水 1 O Om 、 次いで飽和 食塩水 1 00m£ で洗浄した後、 無水硫酸マグネシゥムで 乾燥した。 減圧下酢酸ェチルを留去し、 残渣にメ タノール 30 Omj? 、 濃塩酸 50 mj を加え、 3時間加熱還流した。 減圧下溶媒を留去し、 析出した白色結晶をアセ ト ンにて洗 浄し、 1 1一 (1—ビペラジニル) ゥンデカン酸メチルェ ステルを塩酸塩と して 25 g (収率 70 %) 得た。
[0138] 1H-NMR. (DMS O - d 6 + D 2 0) δ :
[0139] 1.00-1. 4 (18H, m) , 2.54 (2H, m) , 3.14 (2H, m) ,
[0140] 3.47 (6Η, m), 3, 57 (3Η, s)
[0141] MS : 284 ( M+ )
[0142] 実施例 1
[0143] 1一 (2—ヒ ドロキシー 2—フエニルェチル) 一 4— 〔1 0— (2—テ トラ ヒ ドロビラニルォキシ) デシル〕 ピ ペラジン 447 m g ( 1. 0 m m 0 ί ) > 3, 4— ビス一 (ρ—メ トキシフエ二ル) イソォキサゾール— 5—酢酸 6 9 7 m ( 2. 0 m m o £ ) と触媒量の 4ージメチルア ミ ノ ピリ ジンをァセ トニ ト リル 2 0 m に溶解し、 これに N N ' ージシクロへキシルカルボジイ ミ ド 5 7 5 m g ( 3. 0 mm ο ί ) のァセ トニ ト リル 2 0 mi 溶液を氷冷下滴下 して加え、 室温にて 6時間撹拌した。 減圧下溶媒を留去し 残渣をシリカゲルカラムクロマ トグラフィ ー (クロ口ホル ム : メ タノール = 2 0 : 1 ) にて精製した。 得られた保護 体を 2 —プロパノール 3 0 mi に溶解し、 マレイ ン酸 2 3 5 m gを加え、 1 2時間加熱還流後、 減圧下溶媒を留去し た。 残澄に 1 N—水酸化ナ ト リ ゥム水溶液 5 0 m£ を加え. クロ口ホルム 1 0 0 m£ にて抽出し、 無水硫酸マグネシゥ ムで乾燥後、 減圧下濃縮した。 残渣をシリ カゲルカラムク 口マ トグラフィ ー (クロ口ホルム : メ タノール = 5 : 1 ) にて精製し、.得られたオイル状物をエーテル 2 0 τ ΰ に溶 解し、 これにマレイ ン酸 1 4 0 m gのエーテル溶液 (3 0 mi ) を加え、 析出晶を濾取した。 得られたマレイ ン酸塩 を少量のエーテルで洗い、 減圧下乾燥し、 第 1表記載の化 合物 1を 5 5 9 m g (収率 6 1 %) 得た。
[0144] 実施例 2
[0145] 実施例 1 と同様にして第 1表に示す化合物 2〜 1 1及び 1 3を合成した。 尚、 第 1表の元素分析値において上段が 分析値、 下段が理論値を示す。 実施例 3
[0146] 3 , 4一 ビス一 (ρ—メ トキシフヱニル) イ ソォキサゾ ール— 5—酢酸 1. 4 g> (4. O mm oj? ) 、 N— (2— ピペラジニルェチル) フタルイ ミ ド 1. 5 g ( 5. 8mm o j ) 、 N , N ' ージシク ロへキシルカルボジイ ミ ド 1 , 2 s (5, 8mm o ) 、 触媒量の 4一ジメチルァ ミ ノ ピ リ ジンの乾燥塩化メチレン溶液を室温で 24時間撹拌後、 析出晶を濾取し、 塩化メチレンで洗浄後、 母液と濾液とを 合わせ、 減圧下濃縮した。 残渣をシリカゲルクロマ トグラ フ ィ ー (ク ロ口ホルム : メ タノール = 1 0 : 1 ) により精 製し、 得られたオイル状物質をエタノール 5 O mj に溶解 し、 ヒ ドラ ジン水和物 200 m gを加え、 室温下 3日間撹 拌した。 析出晶を濾取し、 エタノ ールで洗浄し、 母液と合 わせて減圧下濃縮した。 得られた残澄をジメ チルホルムァ ミ ド l O m に溶解し、 カフヱ一酸 720 m g (4. 0 m m o j ) 、 1ー ヒ ドロキシベンゾ ト リ アゾーノレ 540 m g ( 4. O mm oj ) N , N ' —ジシクロへキシノレカルボ、 ジイ ミ ド 824 m g (4. O mm oj ) を加え、 室温下 2 4時間撹拌した。 析出晶を濾取し、 ジメチルホルムア ミ ド で洗浄し、 母液と合わせて減圧下濃縮後、 得られた残渣を シ リ カゲルカラムク ロマ ト グラフィ ー (ク ロ口ホルム : メ 夕ノール = 5 : 1 ) で精製した。 得られたオイル状物質を エーテル 20 m に溶解し、 マレイ ン酸のエーテル溶液 (848m g:/20 mj ) を加え、 析出晶をエーテルでよ く洗浄し、 減圧下室温で乾燥し、 第 1表記載の化合物 1 2 を 1. 5 g (収率 5 1 % 得た。
[0147] 以上の実施例 1〜 3により製造された本発明の化合物 1 〜 1 3の構造、 融点、 分子式及び元素分析の結果を、 以下 の第 1表に示す。
[0148]
[0149] o
[0150] u H cn
[0151] to
[0152] m CM
[0153] CD
[0154] CO
[0155] co co co o o
[0156] 9 s· 5 C99ε 2·
[0157]
[0158] I
[0159] £S∑lO/l6df/JDd ェ
[0160] Ο Ο
[0161] 6卜2s 0·- e
[0162] CO
[0163] r
[0164] ZZ
[0165] J
[0166] S JQ; へ
[0167] :
[0168] LO
[0169]
[0170] o OO 0
[0171] 0 to
[0172] 1 (続 )
[0173] 製剤例
[0174] 以下に、 本発明の化合物を用いた製剤例を挙げる 製剤例 1 (錠剤)
[0175] 下記の配合割合で、 常法に従い錠剤を調製した。
[0176] 化合物 1 0 0 m g 乳 糖 4 7 m g ト ウモロコ シデンプン 5 0 m g 結晶セルロース 5 0 m g ヒ ドロキシプロ ピノレセノレロース 1 5 m g タルク 2 m g ステア リ ン酸マグネシウム 2 m s ェチルセルロース 3 0 m g 不飽和脂肪酸グリセリ ド 2 m g 二酸化チダン 2 m g
[0177] —錠当り 3 0 0 m g 製剤例 2 (顆粒剤)
[0178] 下記の配合割合で、 常法に従い顆粒剤を調製した。 化合物 5 2 0 0 m g マンニ トール 54 0 m g ト ウモロコ シデンプン l O O m g 結晶セルロース l O O m g ヒ ドロキシプロ ピルセノレロース 5 0 m タルク 0 m g 一包当り 000 m g 製剤例 3 (細粒剤)
[0179] 下記の配合割合で 常法に従い細粒剤を調製した 化合物 6 200 m g マンニ トーノレ 520 m g ト ウモロコ シデンプン 1 0 0 m g 結晶セルロース 1 00 m g ヒ ドロキンプロ ピルセルロース 7 0 m g タルク 1 0 m g 一包当り 1 000 m g 製剤例 4 (カプセル剤)
[0180] 下記の配合割合で、 常法に従いカプセル剤を調製した 化合物 8 1 0 0 m g 乳糖 50 m g ト ウモロコ シデンプン 4 7 m g 結晶セルロース 50 m g タルク 2 m g ステア リ ン酸マグネシウム l_m g
[0181] —カプセル当り 2 50 m g 製剤例 5 (シロ ップ剤)
[0182] 下記の配合割合で、 常法に従いシロップ剤を調製した 化合物 7 1 s 精製白糖 6 0 s パラ ヒ ドロキシ安息香酸ェチル 5 m g パラ ヒ ドロキシ安息香酸プチル 5 m g 香料 適 量 着色料 適 量 精製水 適 量 全 量 1 0 0 mi 製剤例 6 (注射剤)
[0183] 下記の配合割合で、 常法に従い注射剤を調製した。 化合物 1 0 1 0 0 m g 注射用蒸留水 適 量
[0184] 1管中 2 mfi 製剤例 7 (坐剤)
[0185] 下記の配合割合で、 常法に従い坐剤を調製した。
[0186] 化合物 1 2 1 0 0 m g ウイテツブゾール W— 3 5 140 0 m g
[0187] (登録商標、 ラウリ ン酸からステア
[0188] リ ン酸までの飽和脂肪酸のモノ ―、
[0189] ジー及びト リ —グリセライ ド
[0190] _ 混 έ物、 ダイナマイ トノ一ベル社製)
[0191] 1個当り 5 0 0 m g 薬理試験
[0192] ( 1 ) シクロォキシゲナーゼ阻害作用
[0193] ルセル ジエイ . テイ ラー (R u s s e l l J . T a y l o r ) ら、 ノくィオケミ カノレ ファーマコロジー (B i o c h e m. P h a r m a c o l . ) 25, 24 7 9 - 2484 ( 1 976) に記載の方法に従い試験を行った。 即ち、 14Cーァラキ ドン酸にヒッジ精のう腺ミ ク口ゾーム および各種濃度の被験薬を一定時間反応させ、 生成するプ ロスタグランジン E 2 を薄層クロマ トグラフィ ーにより分 離し、 その放射活性を液体シンチレーシヨ ンカウ ンターで 測定し、 対照群との放射活性の比較から、 I c5()を算出し o
[0194] ( 2) 5— リポキシゲナーゼ阻害作用
[0195] ゲンキチ ォチ (K e n k i c h i O c h i ) ら、 ジ ヤーナル 才ブ バイオロジカル ケミ ス ト リー ( J . B i o l . C h e m. ) 2 58, 57 54 - 57 58 ( 1 983) に記載の方法に従い、 試験を行った。 即ち、 モルモッ トの腹腔内にカゼィ ンを注射し、 多形核白血球を 採取し、 その細胞質画分を酵素標本と して得た。
[0196] 14C -ァラキ ドン酸に酵素標本及び各種濃度の被験薬を一 定時間反応させ、 生成する 5— ヒ ドロキシエイコサテ トラ ェン酸を薄層クロマ トグラフィ ーにより分離し、 その放射 活性を測定し、 対照群との放射活性の比較から I c 5Qを算 出した。
[0197] 上記 ( 1 ) 及び (2 ) の試験結果を以下の第 2表に示す, 第 2 表
[0198] 第 2表の結果から、 本発明の化合物はシクロォキシゲナ ーゼ及びリポキシゲナーゼをいずれも強力に阻害すること が確認された。
权利要求:
Claims

92/05162
4 請 求 の 範 囲
① 一般式 ( 1 )
〔式中、 : Rは水素原子又は低級アルコキシ基を示し、 は一般式 (2 )
(式中、 Aは一 N H—又は一 0—を示す。 Bはメチレン甚 又はカルボ二ル基を示す。 mは 0又は 1を示し、 nは 1 〜 1 2の整数を示す。 Xは水素原子、 ヒ ドロキシ基又は低級 アルコキシカルボ二ル基を示す。 Yは、 ハロゲン原子で置 換されていてもよいフユニル基又は水素原子を示す。 ) で表わされる基、 一般式 (3 )
•N N-2 (3) ( Zはピリ ミ ジニル基を示す。 ) で表わされる基又は 般式 (4 )
(式中、 R はヒ ドロキン基で置換されていてもよいス チリル基を示す。 )
で表わされる基を示す。 〕
で表わされるィソォキサゾール化合物又はその薬学的に許 容される塩。
② Rが低級アルコキシ基である請求項 1に記載のィソォ キサゾール化合物またはその薬学的に許容される塩。
③ Rがメ トキシ基である請求項 1に記載のイソォキサゾ 一ル化合物またはその薬学的に許容される塩。
④ R 2 が一般式 (2 ) で表される基である請求項 1に記 載のィソォキサゾール化合物またはその薬学的に許容され る
⑤ R 2 が一般式 (2 ) で表される基であって、 式中 Aが 一 N H—又は— 0—を示し、 Bがメチレン基又は力ルポ二 ル基を示し、 mが 1を示し、 nがら〜 1 2の整数を示し、 Xが水素原子又はヒ ドロキシ基を示し、 Yがフヱニル基又 は水素原子を示す請求項 1に記載のィソォキサゾール化^ 物またはその薬学的に許容される塩。
⑥ が一般式 (2 ) で表される基であって、 式中 Aが 一 N H—を示し、 Bがメチレン基又はカルボ二ル基を示し、 mが 1を示し、 nが 1 0を示し、 Xが水素原子又はヒ ドロ キシ基を示し、 Yがフユニル基又は水素原子を示す請求項 1 に記載のィ ソォキサゾール化合物またはその薬学的に許 容される塩。
⑦ Rが低級アルコキシ基であり且つ R i が一般式 ( 2 ) で表される基であって、 式中 Aがー N H—又は一 0—を示 し、 Bがメチレン基又はカルボ二ル基を示し、 mが 1を示 し、 nが 6〜 1 2の整数を示し、 Xが水素原子又はヒ ドロ キシ基を示し、 Yがフユニル基又は水素原子を示す請求項 1 に記載のィソォキサゾール化合物またはその薬学的に許 容される 。
⑧ Rがメ トキシ基であり且つ が一般式 ( 2 ) で表さ れる基であって、 式中 Aが— N H—を示し、 Bがメチレン 基又はカルボ二ル基を示し、 mが 1を示し、 nが 1 0を示 し、 Xが水素原子又はヒ ドロキシ基を示し、 Yがフユニル 基又は水素原子を示す請求項 1に記載のィソォキサゾール 化合物またはその薬学的に許容される塩。
⑨ 請求项 1 に記載のィ ソォキサゾール化合物またはその 薬学的に許容される塩の有効量と薬学的担体とを含有する リポキシゲナーゼ阻害剤。
⑩ 請求項 1に記載のィソォキサゾール化合物またはその 薬学的に許容される塩の有効量と薬学的担体とを含有する
5—リポキシゲナーゼ阻害剤。
(D) 請求項 1に記載のィソォキサゾール化合物またはその 薬学的に許容される塩の有効量と薬学的担体とを含有する シク口才キシゲナーゼ阻害剤。
© 請求項 1に記載のィソォキサゾール化合物またはその 薬学的に許容される塩の有効量を患者に投与することを特 徴とするリポキシゲナーゼ阻害方法。
⑩ 請求項 1に記載のィソォキサゾール化合物またはその 薬学的に許容される塩の有効量を患者に投与することを特 徵とする 5—リボキシゲナーゼ阻害方法。
⑩ 請求項 1に記載のィソォキサゾール化合物またはその 薬学的に許容される塩の有効量を患者に投与することを特 徴とするシク口才キシゲナーゼ阻害方法。
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